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第169章 抢占EUV光刻机配套专利!(1 / 2)

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“光刻机的问题,我这边会联合国内高校、研究所、一起解决!”

韩文韬对邱云说道:“你放心,光刻机不是没办法追,没你想象中的那么难!”

“即便是现在,“北辰”公司也已经有很多技术积累了!”

“你说的12寸晶圆厂自动物料搬运系统,还有硅片问题……我年后联合“北辰精密”解决这方面的问题!”

“保证在晶圆厂投入使用之前,将问题解决。”

目前12英寸晶圆厂的自动物料搬运系统,全球也是刚刚投入使用。

主要的问题还是精度!

以及——洁净度!

精度自然不用多说,涉及到芯片半导体,哪怕是搬运物料,硅片取送,要求都极高!

不仅仅是精度,还要稳定!

洁净度自然不用多说。

一粒微小尘埃落在晶圆上,就会造成电路短路、断路,直接报废整片晶圆。

整个晶圆厂车间,洁净度要求是:ISO5,百级。

也就是:每立方英尺空气中≥0.5μ灰尘颗粒≤100颗。

核心光刻设备内部晶圆微环境,洁净度需要达到:ISO4——十级!

也就是:每立方英尺空气中≥0.5μ灰尘颗粒≤10颗。

这种洁净度下,自动物料搬运系统,无论你怎么做……地上走?还是搞在空中?

导轨之间的摩擦,都可能产生尘埃。

所以整个自动物料系统要求极高!!

才值得邱云拿出来说。

但是对于韩文韬来说,都不是问题。

制作出耐磨材料,加上“北辰精密”的高精度设备和控制系统,完成这个自动物料搬运系统难度不大。

至于硅片?

这个更简单!

“原子重组”的能力,直接从原子微观视角整合硅片的制作工程:

石英砂还原为冶金级硅;

在单晶炉内将多晶硅熔化,用籽晶缓慢旋转提拉,生长成圆柱形的单晶硅锭;

在这些过程中,原子的排列和变化。

找到最佳精炼方法、温度、拉晶的力度曲线等等。

有了原子级的详细数据,再去逆推整个生产制造设备、方法、工艺……不存在任何问题!

最多就是多尝试几次!

甚至还能将现有设备、加工方式、以及工艺上做优化!

“老板有信心就好……这件事其实不着急,我等着公司资产的12寸大硅片!”

邱云对老板的自信……怎么说呢!

有一定的信心!

但不完全相信。

只有搞半导体这一行,才知道晶圆厂设计的设备、材料有多少、精度有多高。

仅仅是光刻机,他就不觉得,老板自己联合东大国内的高校和研究所,就能解决!

能追上全球众多国家、各领域最顶尖的企业、联合生产制造的——最顶尖的光刻机!

目前,光刻机已经到0.13u……也就是130纳米,将步入90纳米制程工艺。

东大国内的光刻机?

邱云真的了解过。

东大确实能生产制造光刻机……只不过制程工艺0.8微米-1微米的水平。

也就是800纳米-1000纳米!

对比120纳米和90纳米,差距确实很大。

用来生产一些普通的电器芯片,高校和科研机构是没问题的。

但是要用在高端电子设备上,1微米和0.8微米?

根本不够看!

差了整整5代!!!

这要追赶阿斯麦90纳米的光刻机……那差的就不是5代了。

其中的难度……根本没办法说。

“那我先走了!”

韩文韬没和邱云多说什么,没去解释什么。

他将邱云提出的问题记下来,在晶圆厂正式投入使用前解决就行。

当然……光刻机不可能解决。

还是只能先用0.25u的光刻机。